医师分全科医师和专科医师，实际上，在现代微电子制造中也隐含着全科工程师和专科工程师在技术层面上的差异。作为全科工程师，必须能从系统角度熟悉现代微电子制造技术的原理集成和热点问题的形成，并能以贯穿电子系统制造全过程的质量状态为脉络，知晓产品在制造过程中可能发生的各种大、小概率事件的发生机理，并能迅速地寻求解决方案，避免因工艺过程被迫终止、生产线被迫停运，而给企业造成重大经济损失。 本书可作为从事现代微电子制造技术的全科工程师应掌握的基本“知识池”，也可作为从事现代微电子制造技术的各类专科工程师的参考读物，亦可作为电子制造类职业学院全科工程师的培训教材。

这是一本系统剖析SoC底层软件低功耗系统设计、实现与定制化的著作，同时它还全面讲解了低功耗的知识点以及各种低功耗问题的定位与优化。作者在华为海思等半导体企业深耕低功耗领域10余年，本书内容基于作者的实际商用经验撰写而成，读完本书后，我们至少能掌握以下知识：（1）Linux内核中所有与低功耗相关的17个模块的设计与实现原理，以及这些模块的自定义实现和二次开发，这部分内容能让读者对低功耗相关的问题知其然并知其所以然。（2）Linux内核中关于低功耗的设计思想，既同时适用于宏内核、微内核和精简内核，又可以给其他的操作系统提供思路和启发。（3）低功耗的20余个扩展知识点，让读者对低功耗有更全面、更深入地了解。（4）各种低功耗问题的定位方法和通用优化手段。

本书介绍空间局域电磁波的复空间源理论、空间定位的特定实现方式。空间局域电磁波的复空间源理论在各种介质需要聚束电磁波定向传播的应用中非常具有吸引力。本书共 15章。第 1章和第 2章为基本高斯波束和基本高斯波，第 3章为复空间中点电流源的起源，第 4章为基本全高斯波，第 5章复源点理论，第 6章为扩展的全高斯波，第 7章为圆柱对称横磁全高斯波，第 8章为两个高阶全高斯波，第 9章和第 10章为基本全复变和全实变拉盖尔-高斯波，第 11章和第 12章为基本全复变和全实变厄米特-高斯波，第 13章为基本全修正贝塞尔-高斯波，第 14章为部分相干和部分非相干全高斯波，第 15章为艾里波束和艾里波。

本书主要围绕轨道角动量复用通信的关键技术，对涡旋光束的产生、传输、检测及应用进行介绍，对一系列产生涡旋光束的方法进行详细的描述和对比；以拉盖尔-高斯光束和贝塞尔-高斯光束为主，介绍涡旋光束在大气湍流中的传输特性；利用涡旋光束的叠加态、干涉、衍射及光栅，实现涡旋光束拓扑荷数的检测；介绍涡旋光束在光通信中的应用及部分相干涡旋光束在大气湍流中的传输特性；介绍涡旋光束信息交换及信道重构。

本书系统介绍数字图像处理和分析的基本原理、经典内容及近年来的重要进展和实例，加强现代数学方法与数字图像处理的融合，把深度学习方法作为数字图像处理的一种重要方法贯穿于相应内容中。全书共12章，内容包括图像增强、图像压缩、图像复原、数学形态学、图像分割的传统方法、图像分割的现代方法、图像分割的深度学习方法及先验知识引导、图像配准传统方法、深度学习图像配准与传统图像配准的相互促进等。本书包括一些例题讲解，每章都有小结、参考文献和分级的复习思考题，其中一些复习思考题专注于学生综合能力的培养。

本书详细阐述了通信局（站）电源系统的结构组成与供电方式，各系统（交流供电系统、直流供电系统、防雷接地系统、机房空调系统、集中监控系统）的基本结构、技术要求、设备选择、安装调试以及常用通信电源设备（发电机组、高频开关电源、交流不间断电源和铅酸蓄电池）的基本结构、工作原理、维护保养、常见故障检修等有关通信电源系统的核心内容，充分反映了通信局（站）电源系统的基本理论、典型结构组成和技术发展趋势。本书依据《全国通信专业技术人员职业水平考试大纲（动力与环境）》和通信电源（通信电力机务员）专业要求编写，既可作为全国通信专业技术人员职业水平考试（动力与环境）的教材，也可作为各级通信电力机务员职业技能鉴定的复习考试指南，还可作为普通高等院校相关专业和职业技术院校通信电源专业的教学参考用书，更是通信局（站）电源技术与管理人员的案头学习参考用书。

本书凝结了雷达对抗领域中交叉眼干扰技术的**成果，系统论述了可有效对抗单脉冲雷达的多源反向交叉眼干扰理论与技术，为反向交叉眼干扰的工程应用提供参考。内容可以分为三部分：第一部分在分析对抗单脉冲测角雷达的干扰现状的基础上，着重介绍交叉眼干扰的理论发展历程、现役装备，论述传统交叉眼干扰的若干应用难题；第二部分阐述性能优于传统交叉眼干扰的多源线阵反向交叉眼干扰技术，主要包括干扰性能分析、参数容限需求分析、干信比需求分析；第三部分阐述性能稳健的多源圆阵反向交叉眼干扰技术，并与传统交叉眼干扰、多源线阵反向交叉眼干扰进行对比。第二部分和第三部分是本书的重点内容。

《半导体芯片和制造——理论和工艺实用指南》是一本实用而优秀的关于半导体芯片理论、制造和工艺设计的书籍。《半导体芯片和制造——理论和工艺实用指南》对半导体制造工艺和所需设备的解释是基于它们所遵守的基本的物理、化学和电路的规律来进行的，以便读者无论到达世界哪个地方的洁净室，都能尽快了解所使用的工艺和设备，并知道使用哪些设备、采用何种工艺来实现他们的设计和制造目标。《半导体芯片和制造——理论和工艺实用指南》理论结合实际，大部分的描述均围绕着实际设备和工艺展开，并配有大量的设备图、制造工艺示意图和半导体芯片结构图。《半导体芯片和制造——理论和工艺实用指南》主要包括如下主题：基本概念，例如等离子设备中的阻抗失配和理论，以及能带和Clausius-Clapeyron方程；半导体器件和制造设备的基础知识，包括直流和交流电路、电场、磁场、谐振腔以及器件和设备中使用的部件；晶体管和集成电路，包括双极型晶体管、结型场效应晶体管和金属？半导体场效应晶体管；芯片制造的主要工艺，包括光刻、金属化、反应离子刻蚀（RIE）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、热氧化和注入等；工艺设计和解决问题的技巧，例如如何设计干法刻蚀配方，以及如何解决在博世工艺中出现的微米草问题。《半导体芯片和制造——理论和工艺实用指南》概念清晰，资料丰富，内容实用，可作为微电子学与固体电子学、电子科学与技术、集成电路工程等专业的研究生和高年级本科生的教学参考书，也可供相关领域的工程技术人员参考。

集成电路制造向几纳米节点工艺的发展，需要具有原子级保真度的刻蚀技术，原子层刻蚀（ALE）技术应运而生。《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》主要内容有：热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等，探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术，涵盖了定向和各向同性ALE的全新研究和进展。《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》以特定的刻蚀应用作为所讨论机制的示例，例如栅极刻蚀、接触孔刻蚀或3D NAND通道孔刻蚀，有助于对所有干法刻蚀技术的原子层次理解。《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》概念清晰，资料丰富，内容新颖，可作为微电子学与固体电子学、电子科学与技术、集成电路科学与工程等专业的研究生和高年级本科生的教学参考书，也可供相关领域的工程技术人员参考。

卫星互联网微波通信关键技术 是对卫星互联网微波通信技术研究成果的汇总。在深入分析卫星互联网体系架构的基础上，本书系统阐述卫星轨道与星座设计、电波传播与微波通信链路等卫星互联网微波通信的基本原理，分析典 型微波通信天线和射频微波电路的特点、构成及技术特点，重点描述高通量卫星通信技术、面向海量连接的低轨卫星物联网技术、频谱认知与干扰分析技术等方面的理论和技术研究成果，对我国卫星互联网的研究、设计、建设、运行和维护具有重要参考价值。本书可作为卫星互联网领域科研人员和工程技术人员的参考用书，也可作为高等院校研究生和高年级本科生的教材或参考用书