光刻机像质检测技术（下册）

　　光刻机像质检测技术是支撑光刻机整机与分系统满足光刻机分辨率、套刻精度等性能指标要求的关键技术。本书系统地介绍了光刻机像质检测技术。介绍了国际主流的光刻机像质检测技术，详细介绍了本团队提出的系列新技术，涵盖了光刻胶曝光法、空间像测量法、干涉测量法等检测技术，包括初级像质参数、波像差、偏振像差、动态像差、热像差等像质检测技术。本书介绍了这些技术的理论基础、原理、模型、算法、仿真与实验验证等内容。以光刻机原位与在线像质检测技术为主，也介绍了投影物镜的离线像质检测技术，涵盖了深紫外干式、浸液光刻机以及极紫外光刻机像质检测技术。

　　作者简介： 王向朝 中国科学院上海光学精密机械研究所研究员，国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”（02专项）总体专家组专家。获国际与国内授权发明专利160余项，在国际与国内光学与光刻领域主流期刊发表学术论文360余篇，出版学术著作3部。培养博士研究生60余名（含我国高端光刻机整机技术领域第一批博士研究生）。戴凤钊 中国科学院上海光学精密机械研究所副研究员，中国科学院青年创新促进会会员。2008年本科毕业于西安电子科技大学，2013年获中国科学院大学博士学位。主要研究领域为高端光刻机技术。获授权国内外发明专利10余项，作为第一作者或通讯作者在国际光学领域主流期刊发表学术论文10篇，参与撰写学术著作3部。

目录

(下册)

序言

前言

第7章 基于原位PMI的波像差检测 1

7.1 Shack-Hartmann检测技术 1

7.2 线衍射干涉检测技术 4

7.3 Ronchi剪切干涉检测技术 5

7.3.1 在光刻机中的应用 5

7.3.2 干涉场的理论分析 6

7.3.3 相位提取技术 16

7.3.4 波前重建技术 28

7.3.5 实验系统参数设计与实验结果 38

7.4 多通道Ronchi剪切干涉检测技术 43

7.4.1 稀疏采样法波前重建 44

7.4.2 多通道检测系统设计 53

参考文献 54

第8章 偏振像差检测 57

8.1 偏振像差对光刻成像质量的影响 57

8.2 偏振像差表征方法 62

8.2.1 偏振态及其变换的表征方法 62

8.2.2 穆勒矩阵表征法 66

8.2.3 琼斯矩阵表征法 69

8.2.4 三阶琼斯矩阵表征法 79

8.3 基于光刻胶曝光的检测技术 83

8.3.1 SPIN-BLP技术 83

8.3.2 基于相移掩模的检测技术 85

8.4 基于椭偏测量的检测技术 87

8.4.1 穆勒光瞳检测技术 87

8.4.2 琼斯光瞳检测技术 110

8.5 基于空间像测量的检测技术 130

8.5.1 基于空间像位置偏移量的检测 130

8.5.2 基于差分空间像主成分分析的检测 154

参考文献 171

第9章 极紫外光刻投影物镜波像差检测 174

9.1 基于干涉测量的检测技术 174

9.1.1 点衍射干涉检测 174

9.1.2 剪切干涉检测 241

9.1.3 Fizeau干涉检测 274

9.2 基于Hartmann波前传感器的检测技术 276

9.3 基于空间像测量的检测技术 277

9.3.1 基于空间像匹配的检测技术 277

9.3.2 基于波前局部曲率测量的检测技术 278

9.4 基于Ptychography的检测技术 279

9.4.1 基本原理 279

9.4.2 相位恢复算法 281

9.4.3 光场传播公式 288

9.4.4 仿真与实验 292

9.5 基于光刻胶曝光的检测技术 300

参考文献 302

第10章 像质检测关键依托技术 311

10.1 工件台位置参数检测技术 311

10.1.1 工件台基座表面形貌测量技术 311

10.1.2 承片台不平度检测技术 314

10.1.3 承片台方镜表面不平度检测技术 316

10.1.4 工件台水平坐标系校正参数检测技术 321

10.2 调焦调平传感技术 326

10.2.1 狭缝投影位置传感技术 326

10.2.2 光栅投影位置传感技术 341

10.3 硅片对准技术 353

10.3.1 自相干莫尔条纹对准技术 353

10.3.2 基于标记结构优化的对准精度提升方法 360

10.3.3 基于多通道对准信号的对准误差补偿技术 373

10.4 照明参数检测与控制技术 376

10.4.1 照明参数优化 376

10.4.2 照明光瞳偏振参数检测技术 383

10.4.3 照明均匀性控制技术 391

10.4.4 曝光剂量控制技术 394

10.5 光刻成像多参数优化技术 398

10.5.1 光源优化技术 398

10.5.2 掩模优化技术 406

10.5.3 光源掩模联合优化技术 410

10.5.4 光源掩模投影物镜联合优化技术 429

10.5.5 光刻机多参数联合优化技术 435

10.6 EUV光刻掩模衍射成像仿真技术 440

10.6.1 无缺陷掩模衍射场仿真技术 440

10.6.2 含缺陷掩模衍射场仿真技术 456

参考文献 475

后记 479

(上册)

第1章 绪论

第2章 光刻成像模型

第3章 初级像质参数检测

第4章 基于光刻胶曝光的波像差检测

第5章 基于空间像测量的波像差检测

第6章 基于空间像主成分分析的波像差检测