书籍详情
氮化镓功率器件 材料、应用及可靠性
作者：[意] 马特奥·梅内吉尼（Matteo Meneghini） 等 著
出版社：机械工业出版社
出版时间：2022-03-01
ISBN：9787111697558
定价：¥125.00
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内容简介
本书重点讨论了与氮化镓（GaN）器件相关的内容，共分15章，每一章都围绕不同的主题进行论述，涵盖GaN材料、与CMOS工艺兼容的GaN工艺、不同的GaN器件设计、GaN器件的建模、GaN器件的可靠性表征以及GaN器件的应用。本书的特点是每一章都由全球不同的从事GaN研究机构的专家撰写，引用了大量的代表新成果的文献，适合于从事GaN技术研究的科研人员、企业研发人员，以及工程师阅读，也可作为微电子及相关专业的高年级本科生、研究生和教师的参考用书。
作者简介
暂缺《氮化镓功率器件 材料、应用及可靠性》作者简介
目录
原书前言
第1章GaN的特性及优点1
1.1总体背景1
1.2GaN材料2
1.3极化效应5
1.4GaN基FET8
1.5天然超级结(NSJ)结构10
1.6导通电阻和击穿电压13
1.7低压器件14
1.8高压器件18
1.9GaN垂直功率器件的未来研究21
参考文献22
第2章衬底和材料24
2.1衬底概述25
2.2金属有机化学气相沉积26
2.2.1半绝缘(S.I.)的(Al,Ga)N层的制造28
2.2.2n型和p型掺杂29
2.2.3AlGaN/GaN异质结构30
2.3陷阱和色散31
2.4横向功率开关器件外延结构的制备31
2.4.1硅衬底上电流阻断层的沉积32
2.4.2碳化硅衬底上电流阻断层的沉积33
2.4.3蓝宝石衬底上电流阻断层的沉积33
2.4.4栅控层生长35
2.5垂直器件35
2.6展望39
2.6.1InAlN和AlInGaN垫座层39
2.6.2基于非c面GaN的器件40
参考文献41
第3章Si上GaN CMOS兼容工艺47
3.1Si上GaN外延47
3.2Si上GaN无Au工艺49
3.3无Au欧姆接触54
3.3.1AlGaN势垒层凹槽55
3.3.2欧姆合金优化55
3.3.3Ti/Al比56
3.3.4欧姆金属堆叠底部的Si层57
3.4Ga污染问题58
3.5结论61
参考文献61
第4章横向GaN器件的功率应用（从kHz到GHz）62
4.1简介62
4.2AlGaN/GaN HEMT的历史62
4.3色散的处理64
4.4用于毫米波的GaN66
4.5N极性GaN发展的历史回顾69
4.6电力电子中GaN的应用77
4.7结论83
参考文献83
第5章垂直GaN技术——材料、器件和应用91
5.1引言91
5.2器件拓扑93
5.2.1垂直器件与横向器件的比较93
5.3CAVET的演变95
5.4CAVET设计97
5.4.1器件成功运行所需的关键部分的讨论97
5.5CAVET的关键组成部分99
5.5.1电流阻断层103
5.5.2性能和成本105
5.6体GaN衬底的作用106
5.7RF应用的CAVET107
5.8结论107
参考文献108
第6章GaN基纳米线晶体管110
6.1简介110
6.1.1自下而上的纳米线器件：GaN纳米线场效应晶体管111
6.1.2自上而下的纳米线器件113
6.2三栅GaN功率MISFET114
6.2.1三栅GaN功率晶体管的其他考虑116
6.3用于RF应用的纳米线：增加gm的线性度120
6.4纳米结构的GaN肖特基势垒二极管122
6.4.1GaN SBD的纳米结构阳极123
6.5结论126
参考文献127
第7章深能级表征：电学和光学方法130
7.1简介130
7.2DLTS和DLOS基础131
7.2.1C-DLTS132
7.2.2C-DLOS133
7.2.3C-DLTS和C-DLOS对HEMT的适用性134
7.2.4I-DLTS和I-DLOS135
7.3DLTS和DLOS在GaN HEMT中的应用137
7.3.1利用填充脉冲对陷阱进行空间定位137
7.3.2利用测量偏差对陷阱进行空间定位140
7.3.3测量空间局限性的陷阱的其他方法142
7.4结论143
参考文献144
第8章GaN HEMT的建模：从器件级仿真到虚拟原型146
8.1简介146
8.2器件级仿真148
8.2.1脉冲模式行为149
8.3非优化的缓冲技术150
8.4优化的缓冲层工艺154
8.4.1AC电容155
8.4.2关断态击穿157
8.5Spice模型开发和校准159
8.6应用板的特性和仿真161
8.6.1正常关断pGaN晶体管163
8.6.2正常开启HEMT：共源共栅设计165
8.7结论170
参考文献171
第9章GaN基HEMT中限制性能的陷阱：从固有缺陷到常见杂质173
9.1表面相关的俘获177
9.2Fe掺杂的影响179
9.2.1深能级E2的特性及Fe掺杂的影响180
9.2.2E2陷阱的起源182
9.2.3电应力对俘获机制的影响183
9.3C掺杂的影响185
9.4金属绝缘体半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMT)的俘获机制193
9.4.1正栅极偏压引起的俘获193
9.4.2快俘获和慢俘获机理分析195
9.4.3提高俘获效应的材料和沉积技术196
参考文献199
第10章硅上共源共栅GaNHEMT：结构、性能、制造和可靠性209
10.1共源共栅GaN HEMT的动机和结构209
10.2共源共栅GaN HEMT的功能和优点210
10.3共源共栅GaN HEMT的关键应用和性能优势211
10.3.1无二极管半桥结构211
10.3.2栅极驱动的考虑212
10.4市场上的产品213
10.5应用和主要性能优势214
10.5.1图腾柱功率因数校正（PFC）电路214
10.5.2PV逆变器215
10.5.3带GaN AC-DC PFC和全桥谐振开关LLC DC-DC变换器的一体式电源216
10.6共源共栅GaN HEMT的认证和可靠性217
10.6.1JEDEC认证218
10.6.2扩展的认证/可靠性测试218
10.6.3工作和本征寿命测试219
10.7卓越制造221
10.8单片上的E模式GaN222
10.9未来展望223
10.9.1下一代产品223
10.9.2知识产权考虑223
10.9.3小结223
参考文献224
第11章栅注入晶体管：E模式工作和电导率调制225
11.1GIT的工作原理225
11.2GIT的DC和开关性能228
11.3关于GIT可靠性的研究231
11.4GIT在实际开关系统中的应用234
11.5面向未来电力电子的先进GIT技术237
11.6结论240
参考文献240
第12章氟注入E模式晶体管242
12.1简介：III-氮化物异质结构中的氟：Vth鲁棒性控制242
12.2氟注入的物理机制243
12.2.1F等离子体离子注入的原子模型243
12.2.2AlGaN/GaN异质结构中F离子的稳定性245
12.2.3F离子周围的电子结合能247
12.3F离子注入E模式GaNMIS—HEMT249
12.3.1GaN MIS—HEMT249
12.3.2带有部分凹槽的F离子注入势垒层的GaNMIS—HEMT252
12.3.3GaN智能功率芯片255
12.4结论259
参考文献260
第13章GaN高压功率晶体管的漂移效应262
13.1简介262
13.2漂移效应及其物理机制262
13.2.1概述262
13
第1章GaN的特性及优点1
1.1总体背景1
1.2GaN材料2
1.3极化效应5
1.4GaN基FET8
1.5天然超级结(NSJ)结构10
1.6导通电阻和击穿电压13
1.7低压器件14
1.8高压器件18
1.9GaN垂直功率器件的未来研究21
参考文献22
第2章衬底和材料24
2.1衬底概述25
2.2金属有机化学气相沉积26
2.2.1半绝缘(S.I.)的(Al,Ga)N层的制造28
2.2.2n型和p型掺杂29
2.2.3AlGaN/GaN异质结构30
2.3陷阱和色散31
2.4横向功率开关器件外延结构的制备31
2.4.1硅衬底上电流阻断层的沉积32
2.4.2碳化硅衬底上电流阻断层的沉积33
2.4.3蓝宝石衬底上电流阻断层的沉积33
2.4.4栅控层生长35
2.5垂直器件35
2.6展望39
2.6.1InAlN和AlInGaN垫座层39
2.6.2基于非c面GaN的器件40
参考文献41
第3章Si上GaN CMOS兼容工艺47
3.1Si上GaN外延47
3.2Si上GaN无Au工艺49
3.3无Au欧姆接触54
3.3.1AlGaN势垒层凹槽55
3.3.2欧姆合金优化55
3.3.3Ti/Al比56
3.3.4欧姆金属堆叠底部的Si层57
3.4Ga污染问题58
3.5结论61
参考文献61
第4章横向GaN器件的功率应用（从kHz到GHz）62
4.1简介62
4.2AlGaN/GaN HEMT的历史62
4.3色散的处理64
4.4用于毫米波的GaN66
4.5N极性GaN发展的历史回顾69
4.6电力电子中GaN的应用77
4.7结论83
参考文献83
第5章垂直GaN技术——材料、器件和应用91
5.1引言91
5.2器件拓扑93
5.2.1垂直器件与横向器件的比较93
5.3CAVET的演变95
5.4CAVET设计97
5.4.1器件成功运行所需的关键部分的讨论97
5.5CAVET的关键组成部分99
5.5.1电流阻断层103
5.5.2性能和成本105
5.6体GaN衬底的作用106
5.7RF应用的CAVET107
5.8结论107
参考文献108
第6章GaN基纳米线晶体管110
6.1简介110
6.1.1自下而上的纳米线器件：GaN纳米线场效应晶体管111
6.1.2自上而下的纳米线器件113
6.2三栅GaN功率MISFET114
6.2.1三栅GaN功率晶体管的其他考虑116
6.3用于RF应用的纳米线：增加gm的线性度120
6.4纳米结构的GaN肖特基势垒二极管122
6.4.1GaN SBD的纳米结构阳极123
6.5结论126
参考文献127
第7章深能级表征：电学和光学方法130
7.1简介130
7.2DLTS和DLOS基础131
7.2.1C-DLTS132
7.2.2C-DLOS133
7.2.3C-DLTS和C-DLOS对HEMT的适用性134
7.2.4I-DLTS和I-DLOS135
7.3DLTS和DLOS在GaN HEMT中的应用137
7.3.1利用填充脉冲对陷阱进行空间定位137
7.3.2利用测量偏差对陷阱进行空间定位140
7.3.3测量空间局限性的陷阱的其他方法142
7.4结论143
参考文献144
第8章GaN HEMT的建模：从器件级仿真到虚拟原型146
8.1简介146
8.2器件级仿真148
8.2.1脉冲模式行为149
8.3非优化的缓冲技术150
8.4优化的缓冲层工艺154
8.4.1AC电容155
8.4.2关断态击穿157
8.5Spice模型开发和校准159
8.6应用板的特性和仿真161
8.6.1正常关断pGaN晶体管163
8.6.2正常开启HEMT：共源共栅设计165
8.7结论170
参考文献171
第9章GaN基HEMT中限制性能的陷阱：从固有缺陷到常见杂质173
9.1表面相关的俘获177
9.2Fe掺杂的影响179
9.2.1深能级E2的特性及Fe掺杂的影响180
9.2.2E2陷阱的起源182
9.2.3电应力对俘获机制的影响183
9.3C掺杂的影响185
9.4金属绝缘体半导体高电子迁移率晶体管(MIS-HEMT)的俘获机制193
9.4.1正栅极偏压引起的俘获193
9.4.2快俘获和慢俘获机理分析195
9.4.3提高俘获效应的材料和沉积技术196
参考文献199
第10章硅上共源共栅GaNHEMT：结构、性能、制造和可靠性209
10.1共源共栅GaN HEMT的动机和结构209
10.2共源共栅GaN HEMT的功能和优点210
10.3共源共栅GaN HEMT的关键应用和性能优势211
10.3.1无二极管半桥结构211
10.3.2栅极驱动的考虑212
10.4市场上的产品213
10.5应用和主要性能优势214
10.5.1图腾柱功率因数校正（PFC）电路214
10.5.2PV逆变器215
10.5.3带GaN AC-DC PFC和全桥谐振开关LLC DC-DC变换器的一体式电源216
10.6共源共栅GaN HEMT的认证和可靠性217
10.6.1JEDEC认证218
10.6.2扩展的认证/可靠性测试218
10.6.3工作和本征寿命测试219
10.7卓越制造221
10.8单片上的E模式GaN222
10.9未来展望223
10.9.1下一代产品223
10.9.2知识产权考虑223
10.9.3小结223
参考文献224
第11章栅注入晶体管：E模式工作和电导率调制225
11.1GIT的工作原理225
11.2GIT的DC和开关性能228
11.3关于GIT可靠性的研究231
11.4GIT在实际开关系统中的应用234
11.5面向未来电力电子的先进GIT技术237
11.6结论240
参考文献240
第12章氟注入E模式晶体管242
12.1简介：III-氮化物异质结构中的氟：Vth鲁棒性控制242
12.2氟注入的物理机制243
12.2.1F等离子体离子注入的原子模型243
12.2.2AlGaN/GaN异质结构中F离子的稳定性245
12.2.3F离子周围的电子结合能247
12.3F离子注入E模式GaNMIS—HEMT249
12.3.1GaN MIS—HEMT249
12.3.2带有部分凹槽的F离子注入势垒层的GaNMIS—HEMT252
12.3.3GaN智能功率芯片255
12.4结论259
参考文献260
第13章GaN高压功率晶体管的漂移效应262
13.1简介262
13.2漂移效应及其物理机制262
13.2.1概述262
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