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晶圆级3D IC工艺技术

晶圆级3D IC工艺技术

作者:(新加坡)陈全胜(美)罗纳德·J·古特曼(美)L·拉斐尔·赖夫

出版社:中国宇航出版社

出版时间:2016-10-01

ISBN:9787515912035

定价:¥88.00

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内容简介
暂缺《晶圆级3D IC工艺技术》简介
作者简介
  1单光宝,男,博士生导师,研究员,现为航天九院第二届杰出青年、航天771所TSV立体集成技术负责人。先后承担了基础科研、自然科学基金重点项目、973子课题等多项国家级重点TSV立体集成项目,研制出国内首个辐射加固4层堆叠TSV SRAM样品,推动军用存储器由平面集成向立体集成的跨越发展。近年来,发表学术论文30余篇,申请TSV相关发明专利17项,6项已获授权。2吴龙胜,总师/研究员,安徽安庆,享受国务院特殊津贴,现为航天科技集团公司学科带头人、核高基总体组专家,从事集成电路、3D-IC设计工作。近年来,发表学术论文40余篇。3刘松,男,博士,陕西西安人,1988年8月出生。主要从事3D IC电学、热机械应力可靠性研究。近年来,近年来,发表学术论文近10篇,申请TSV相关发明专利近10项。
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