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多弧离子镀技术与应用
作者：张钧、赵彦辉
出版社：冶金工业出版社
出版时间：2008-01-01
ISBN：9787502444297
定价：¥28.00
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内容简介
本书是近20年来国内外大量相关文献的综合、分析、整理并结合作者的相关研究工作总结而成的。全书共分11章。第1章重点介绍了多弧离子镀的沉积原理与技术特点；第2章、第3章介绍了多弧离子镀的沉积工艺、大颗粒的控制及设备发展；第4～7章分别介绍了多弧离子镀在超硬反应膜、高温防护涂层、表面装饰膜以及功能膜制备方面的应用，给出了丰富的应用实例；第8章介绍了多弧离子镀技术制备合金涂层的成分设计及控制；第9章分析了超硬反应膜的形成元素；第10章、第11章分别介绍了多弧离子镀的镀一渗复合工艺和脉冲偏压多弧离子镀新技术。 本书适合从事材料表面改性，特别是从事真空镀膜技术研究开发及实际生产应用的科技工作者阅读，也可供材料表面工程专业的研究生、本科生参考。
作者简介
暂缺《多弧离子镀技术与应用》作者简介
目录
l 多弧离子镀的沉积原理与技术特点
1.1 真空镀膜技术概论
1.1.1 真空镀膜技术
1.1.2 真空镀膜技术分类
1.2 多弧离子镀的基本结构与沉积原理
1.3 多弧离子镀的技术特点
1.4 多弧离子镀的应用
2 工艺参数及液滴的控制
2.1 大颗粒的产生
2.1.1 产生原因
2.1.2 大颗粒的输运
2.2 大颗粒的去除
2.2.1 大颗粒发射的抑制
2.2.2 在等离子体输运过程中大颗粒数量的减少
2.2.3 其他过滤器
2.3 大颗粒的控制效果
2.4 大颗粒控制的工艺实现及优化
2.4.1 弧电源
2.4.2 工艺参数的控制
2.4.3 过滤器的采用
参考文献
3 多弧离子镀设备的改进
3.1 国内外早期设备
3.1.1 国外早期设备简介
3.1.2 国内早期设备简介
3.2 现阶段设备进展
3.2.1 国外设备进展
3.2.2 国内设备进展
3.3 设备技术发展方向
参考文献
4 多弧离子镀超硬反应膜
4.1 多弧离子镀TiN超硬反应膜
4.1.1 TiN膜的沉积工艺
4.1.2 TiN膜层织构
4.1.3 TiN膜层缺陷——液滴
4.1.4 TiN膜层的摩擦磨损性能
4.1.5 TiN膜层的机械加工性能
4.2 多弧离子镀CrN超硬反应膜
4.3 多弧离子镀ZrN超硬反应膜
4.4 多弧离子镀(Ti，A1)N超硬膜
4.4.1 (Ti，A1)N膜的制备技术
4.4.2 (Ti，A1)N膜层
4.4.3 (Ti，A1)N膜的沉积参数
4.4.4 (Ti，A1)N膜的相组成及晶体结构
4.4.5 (Ti，A1)N膜的硬度和杨氏模量
4.4.6 (Ti，A1)N膜的过渡层与结合力
4.4.7 (Ti，A1)N膜的氧化腐蚀性能
4.4.8 (Ti，A1)N膜的机械加工性能
4.5 多弧离子镀(Ti，Cr)N超硬膜
4.6 多弧离子镀(Ti，Zr)N超硬膜
4.7 多弧离子镀多元超硬反应膜
4.7.1 TiAlZrN超硬反应膜
4.7.2 TiAlCrN超硬反应膜
参考文献
5 多弧离子镀高温防护涂层
5.1 高温防护涂层概述
5.1.1 高温防护涂层的历史发展[1]
5.1.2 高温防护涂层的作用
5.2 MCrAlX高温合金防护涂层[2]
5.2.1 MCrAlX型涂层的氧化和腐蚀
5.2.2 MCrAlX型防护涂层的组元及作用
5.2.3 多弧离子镀MCrAlX型防护涂层的示例
5.3 Ti-Al-cr系高温钛合金防护涂层
5.3.1 高温钛合金的氧化行为
5.3.2 高温钛合金防护涂层综述
5.3.3 Ti-Al-Cr系高温钛合金防护涂层
5.4 热障涂层
5.4.1 热障涂层的基本设计
5.4.2 氧化锆的基本物理化学性质
5.4.3 黏结层材料
5.4.4 热障涂层制备工艺
5.4.5 热障涂层研究重点
参考文献
6 多弧离子镀装饰涂层
6.1 TiN装饰涂层
6.2 ZrN装饰涂层
6.3 掺金装饰涂层
6.4 其他装饰涂层
参考文献
7 多弧离子镀在功能薄膜中的应用
7.1 DLC膜
7.2 CN膜
7.3 氧化物薄膜
7.3.1 氧化钛薄膜
7.3.2 氧化锌薄膜
7.3.3 氧化铟锡(ITO)薄膜
7.3.4 氧化镁薄膜
7.3.5 氧化铝薄膜
7.3.6 氧化铜薄膜
7.4 金属膜
7.5 贮氢薄膜
7.6 其他复合薄膜
7.7 本章小结
参考文献
8 多弧离子镀合金涂层的成分问题
8.1 合金(反应)膜的制备方法
8.1.1 单元素靶多靶共用
8.1.2 镶嵌组合
8.1.3 合金靶应用与成分问题
8.2 成分离析现象的一般规律
8.3 成分离析效应的基本物理解释
8.3.1 基片不加负偏压的情形
8.3.2 基片加一定负偏压后的情形
8.3.3 阴极靶材各组元含量对成分离析的影响
8.3.4 基片负偏压对成分离析的影响
8.4 靶材成分设计
8.4.1 设计方法(1)
8.4.2 设计方法(2)
8.5 本章小结
参考文献
9 超硬反应膜形成元素分析
9.1 超硬膜形成元素
9.1.1 合金元素选择的制约因素
9.1.2 基体元素与合金化元素
9.2 超硬反应膜合金元素的物理特性分析
9.3 合金化元素的作用
9.3.1 铬(Cr)元素的作用
9.3.2 钒(V)元素的作用
9.3.3 锆(Zr)元素的作用
9.3.4 硅(Si)元素的作用
9.3.5 钼(Mo)元素的作用
9.3.6 钇(Y)、铪(Hf)、硼(B)元素的作用
9.4 多元超硬反应膜的发展趋势
参考文献
10 多弧离子镀、渗复合工艺
10.1 多弧离子镀、渗复合工艺
10.1.1 离子渗氮、离子镀复合工艺
10.1.2 加弧辉光渗镀复合工艺
10.1.3 镀渗复合工艺
10.2 研究的前沿问题及发展方向
参考文献
11 脉冲偏压多弧离子镀
11.1 脉冲偏压工艺的工作原理
11.2 脉冲偏压沉积工艺
11.3 脉冲偏压多弧离子镀技术的特征和内涵
11.3.1 脉冲偏压多弧离子镀的热力学类型和特征
11.3.2 镀膜等离子体的物理原理
11.3.3 镀膜电路的电磁兼容问题
11.4 脉冲偏压对薄膜组织结构及性能的影响
11.5 脉冲工艺在制备各种膜层中的应用
11.6 脉冲工艺在工业生产中的应用前景
11.7 发展方向和前景
参考文献
1.1 真空镀膜技术概论
1.1.1 真空镀膜技术
1.1.2 真空镀膜技术分类
1.2 多弧离子镀的基本结构与沉积原理
1.3 多弧离子镀的技术特点
1.4 多弧离子镀的应用
2 工艺参数及液滴的控制
2.1 大颗粒的产生
2.1.1 产生原因
2.1.2 大颗粒的输运
2.2 大颗粒的去除
2.2.1 大颗粒发射的抑制
2.2.2 在等离子体输运过程中大颗粒数量的减少
2.2.3 其他过滤器
2.3 大颗粒的控制效果
2.4 大颗粒控制的工艺实现及优化
2.4.1 弧电源
2.4.2 工艺参数的控制
2.4.3 过滤器的采用
参考文献
3 多弧离子镀设备的改进
3.1 国内外早期设备
3.1.1 国外早期设备简介
3.1.2 国内早期设备简介
3.2 现阶段设备进展
3.2.1 国外设备进展
3.2.2 国内设备进展
3.3 设备技术发展方向
参考文献
4 多弧离子镀超硬反应膜
4.1 多弧离子镀TiN超硬反应膜
4.1.1 TiN膜的沉积工艺
4.1.2 TiN膜层织构
4.1.3 TiN膜层缺陷——液滴
4.1.4 TiN膜层的摩擦磨损性能
4.1.5 TiN膜层的机械加工性能
4.2 多弧离子镀CrN超硬反应膜
4.3 多弧离子镀ZrN超硬反应膜
4.4 多弧离子镀(Ti，A1)N超硬膜
4.4.1 (Ti，A1)N膜的制备技术
4.4.2 (Ti，A1)N膜层
4.4.3 (Ti，A1)N膜的沉积参数
4.4.4 (Ti，A1)N膜的相组成及晶体结构
4.4.5 (Ti，A1)N膜的硬度和杨氏模量
4.4.6 (Ti，A1)N膜的过渡层与结合力
4.4.7 (Ti，A1)N膜的氧化腐蚀性能
4.4.8 (Ti，A1)N膜的机械加工性能
4.5 多弧离子镀(Ti，Cr)N超硬膜
4.6 多弧离子镀(Ti，Zr)N超硬膜
4.7 多弧离子镀多元超硬反应膜
4.7.1 TiAlZrN超硬反应膜
4.7.2 TiAlCrN超硬反应膜
参考文献
5 多弧离子镀高温防护涂层
5.1 高温防护涂层概述
5.1.1 高温防护涂层的历史发展[1]
5.1.2 高温防护涂层的作用
5.2 MCrAlX高温合金防护涂层[2]
5.2.1 MCrAlX型涂层的氧化和腐蚀
5.2.2 MCrAlX型防护涂层的组元及作用
5.2.3 多弧离子镀MCrAlX型防护涂层的示例
5.3 Ti-Al-cr系高温钛合金防护涂层
5.3.1 高温钛合金的氧化行为
5.3.2 高温钛合金防护涂层综述
5.3.3 Ti-Al-Cr系高温钛合金防护涂层
5.4 热障涂层
5.4.1 热障涂层的基本设计
5.4.2 氧化锆的基本物理化学性质
5.4.3 黏结层材料
5.4.4 热障涂层制备工艺
5.4.5 热障涂层研究重点
参考文献
6 多弧离子镀装饰涂层
6.1 TiN装饰涂层
6.2 ZrN装饰涂层
6.3 掺金装饰涂层
6.4 其他装饰涂层
参考文献
7 多弧离子镀在功能薄膜中的应用
7.1 DLC膜
7.2 CN膜
7.3 氧化物薄膜
7.3.1 氧化钛薄膜
7.3.2 氧化锌薄膜
7.3.3 氧化铟锡(ITO)薄膜
7.3.4 氧化镁薄膜
7.3.5 氧化铝薄膜
7.3.6 氧化铜薄膜
7.4 金属膜
7.5 贮氢薄膜
7.6 其他复合薄膜
7.7 本章小结
参考文献
8 多弧离子镀合金涂层的成分问题
8.1 合金(反应)膜的制备方法
8.1.1 单元素靶多靶共用
8.1.2 镶嵌组合
8.1.3 合金靶应用与成分问题
8.2 成分离析现象的一般规律
8.3 成分离析效应的基本物理解释
8.3.1 基片不加负偏压的情形
8.3.2 基片加一定负偏压后的情形
8.3.3 阴极靶材各组元含量对成分离析的影响
8.3.4 基片负偏压对成分离析的影响
8.4 靶材成分设计
8.4.1 设计方法(1)
8.4.2 设计方法(2)
8.5 本章小结
参考文献
9 超硬反应膜形成元素分析
9.1 超硬膜形成元素
9.1.1 合金元素选择的制约因素
9.1.2 基体元素与合金化元素
9.2 超硬反应膜合金元素的物理特性分析
9.3 合金化元素的作用
9.3.1 铬(Cr)元素的作用
9.3.2 钒(V)元素的作用
9.3.3 锆(Zr)元素的作用
9.3.4 硅(Si)元素的作用
9.3.5 钼(Mo)元素的作用
9.3.6 钇(Y)、铪(Hf)、硼(B)元素的作用
9.4 多元超硬反应膜的发展趋势
参考文献
10 多弧离子镀、渗复合工艺
10.1 多弧离子镀、渗复合工艺
10.1.1 离子渗氮、离子镀复合工艺
10.1.2 加弧辉光渗镀复合工艺
10.1.3 镀渗复合工艺
10.2 研究的前沿问题及发展方向
参考文献
11 脉冲偏压多弧离子镀
11.1 脉冲偏压工艺的工作原理
11.2 脉冲偏压沉积工艺
11.3 脉冲偏压多弧离子镀技术的特征和内涵
11.3.1 脉冲偏压多弧离子镀的热力学类型和特征
11.3.2 镀膜等离子体的物理原理
11.3.3 镀膜电路的电磁兼容问题
11.4 脉冲偏压对薄膜组织结构及性能的影响
11.5 脉冲工艺在制备各种膜层中的应用
11.6 脉冲工艺在工业生产中的应用前景
11.7 发展方向和前景
参考文献
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