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光学投影曝光微纳加工技术
作者：姚汉民
出版社：北京工业大学出版社
出版时间：2006-12-01
ISBN：9787563916696
定价：¥46.00
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内容简介
本书系统地介绍了光学光刻技术的发展历史、主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、分类、组成的分系统及关键单元技术、技术发展趋势和前景。这本书是对我国光学光刻技术20多年来的工作实践和创新成果的系统总结，同时还介绍了光学投影光刻的最新进展和纳米光刻新技术的前景展望。各章节选题和结构合理。本书可作为微电子设备专业领域的科技人员和从事半导体、微机械、微光学、红外器件、显示器件等微（米）纳（米）加工技术领域的科技人员的技术参考书，同时还可作为相关高等院校教师、研究生和本科生的参考用书。
作者简介
姚汉民 1944年11月生，男，1966年毕业于浙江大学光学仪器系光学仪器专业，研究员，博士生导师。曾任中国科学院成都分院院长、光电技术研究所所长、微细加工光学技术国家重点实验室主任。长期从事光电跟踪光学仪器和微电子光学设备的研究，1979年至今，参加JX-1型接近／接触式光刻机，圆形电子束、可变矩形电子束曝光机激光定位工件台系统，掩模缺陷自动检测系统，1．5 pan～2 btm分步重复投影光刻机等研究工作。主持国家“八五”攻关项目O．8 μm～1μm投影光刻机、中国科学院重大项目0．7μm～O．8 μmi线投影曝光系统的研究。作为项目负责人，主持完成“九五”重大项目O．35μm投影光刻关键单元技术研究。作为首席专家完成中国科学院知识创新工程重大方向性项目“生物芯片仪器”项目研究。先后获国家科技进步三等奖两项，中国科学院科技进步一等奖四项、科技进步二等奖一项。现为国际SPIE学会会员，中国光学学会会员，四川省学术和技术带头人。1991年享
目录
前言
第一章 光学投影光刻基础
第一节 微纳光刻技术概述
一、微纳加工光刻技术
二、微纳加工光刻技术分类
第二节 光学投影光刻
一、光学投影光刻简介
二、光学投影光刻技术的发展
三、光学投影光刻机分系统及关键单元技术
四、光学投影光刻在微纳加工技术中的应用
参考文献
第二章 投影曝光光学系统
第一节 投影光刻物镜
一、光学基础
二、投影光刻物镜的光学材料
三、投影光刻物镜的光学设计与评价
四、投影光刻物镜的机械结构设计与制造
第二节 均匀照明系统
一、概述
二、紫外光照明系统
三、准分子激光深紫外照明系统
第三节 调焦调平系统
一、概述
二、检焦技术
三、整场调平逐场调焦
四、逐场和实时调平调焦
参考文献
第三章 掩模硅片对准
第一节 概述
一、对准工作原理
二、对准技术和方法
第二节 离轴对准技术
一、CCD视频图像离轴对准的工作原理
二、CCD视频图像离轴对准的对准标记、对准算法和精度分析
第三节 同轴对准技术
一、TIL衍射光栅同轴对准光学原理
二、TIL对准标记
三、TIL对准控制系统及数字信号处理
第四节 同轴对准与离轴对准相结合的对准技术
一、深紫外光刻对对准系统的要求
二、深紫外光刻的对准过程
三、深紫外光刻对准系统的对准标记
四、双激光多级衍射光栅离轴对准(ATHENA)光学原理
五、ATHENA离轴对准的对准算法及工艺适应性
六、深紫外光刻同轴对准原理
第五节 硅片传输与硅片预对准技术
一、硅片传输系统
二、硅片预对准技术
第六节 掩模传输与掩模预对准技术
一、掩模传输系统
二、掩模预对准技术
参考文献
第四章 精密定位工件台
第一节 精密定位工件台概述
一、精密定位工件台的功能
二、精密定位工件台的分类
三、精密定位工件台的发展概况
第二节 工件台系统精度分析
一、测量系统误差
二、机械系统误差
三、控制系统误差
四、环境误差
第三节 工件台的技术指标与检测方法
一、静态性能方面
二、动态性能方面
三、工件台的主要性能指标
第四节 精密硅片工件台的机械结构
一、光刻机工件台的母轨种类
二、光刻机工件台的传动机构与驱动电机
三、二轴粗动台与三轴微动台的结构及特点
四、扫描式硅片工件台和掩模工件台
五、气浮工件台的气足设计
第五节 双频激光干涉测量系统
一、双频激光干涉测量系统
二、测量系统布局和坐标计算方法
三、双频激光干涉测量系统的装配调整
四、双频激光干涉测量系统误差分析
第六节 工件台控制系统设计
一、三维精密工件台控制系统设计
二、三维气浮工件台控制系统设计
参考文献
第五章 分辨力增强技术
第一节 波前工程原理
第二节 离轴照明技术
一、OAI提高投影光刻成像系统分辨力和增大焦深的基本原理
二、四极照明
三、环形照明
四、二元光栅照明
第三节 相移掩模技术
一、PSM提高光刻分辨力的原理-
二、LevensonPSM
三、边缘PSM
四、辅助PSM
五、无铬PSM
六、衰减PSM
第四节 光学邻近效应校正技术
一、邻近效应现象与校正原理
二、线条偏置法
三、添加辅助线条法
四、灰阶掩模法
第五节 光瞳滤波技术
一、光瞳滤波(PF)提高光刻分辨力的原理
二、振幅光瞳滤波
三、相移光瞳滤波
第六节 偏振成像控制技术
一、偏振成像控制提高光刻分辨力的原理
二、偏振成像控制方法
参考文献
第六章 投影光刻整机集成
第一节 整机的主要性能
一、光刻动态分辨力与线条质量
二、套刻坐标系及套刻精度
三、投影光刻机的生产效率
四、整机的可靠性
第二节 投影光刻机整机电控系统
一、控制系统结构
二、电源系统
第三节 投影光刻机整机软件设计
一、投影光刻机的工作流程
二、整机测试软件
三、整机软件框架
第四节 环境控制系统
一、对投影光刻机内部环境控制系统的要求及其组成
二、投影光刻机内部环境控制系统的结构
三、投影光刻机对外部环境的要求
第五节 整机框架设计
一、投影光刻机的振动源
二、框架材料与线膨胀控制
三、整机框架结构实例
参考文献
第七章 投影光刻技术的发展趋势及纳米光刻新技术的前景展望
第一节 光学投影光刻技术的潜力
第二节 光学投影光刻技术的最新进展
第三节 纳米光刻新技术的前景展望
一、纳米压印技术
二、表面等离子体光学光刻
三、原子光刻
四、结语
参考文献
附录：国际主要投影光刻设备厂商机器型号
第一章 光学投影光刻基础
第一节 微纳光刻技术概述
一、微纳加工光刻技术
二、微纳加工光刻技术分类
第二节 光学投影光刻
一、光学投影光刻简介
二、光学投影光刻技术的发展
三、光学投影光刻机分系统及关键单元技术
四、光学投影光刻在微纳加工技术中的应用
参考文献
第二章 投影曝光光学系统
第一节 投影光刻物镜
一、光学基础
二、投影光刻物镜的光学材料
三、投影光刻物镜的光学设计与评价
四、投影光刻物镜的机械结构设计与制造
第二节 均匀照明系统
一、概述
二、紫外光照明系统
三、准分子激光深紫外照明系统
第三节 调焦调平系统
一、概述
二、检焦技术
三、整场调平逐场调焦
四、逐场和实时调平调焦
参考文献
第三章 掩模硅片对准
第一节 概述
一、对准工作原理
二、对准技术和方法
第二节 离轴对准技术
一、CCD视频图像离轴对准的工作原理
二、CCD视频图像离轴对准的对准标记、对准算法和精度分析
第三节 同轴对准技术
一、TIL衍射光栅同轴对准光学原理
二、TIL对准标记
三、TIL对准控制系统及数字信号处理
第四节 同轴对准与离轴对准相结合的对准技术
一、深紫外光刻对对准系统的要求
二、深紫外光刻的对准过程
三、深紫外光刻对准系统的对准标记
四、双激光多级衍射光栅离轴对准(ATHENA)光学原理
五、ATHENA离轴对准的对准算法及工艺适应性
六、深紫外光刻同轴对准原理
第五节 硅片传输与硅片预对准技术
一、硅片传输系统
二、硅片预对准技术
第六节 掩模传输与掩模预对准技术
一、掩模传输系统
二、掩模预对准技术
参考文献
第四章 精密定位工件台
第一节 精密定位工件台概述
一、精密定位工件台的功能
二、精密定位工件台的分类
三、精密定位工件台的发展概况
第二节 工件台系统精度分析
一、测量系统误差
二、机械系统误差
三、控制系统误差
四、环境误差
第三节 工件台的技术指标与检测方法
一、静态性能方面
二、动态性能方面
三、工件台的主要性能指标
第四节 精密硅片工件台的机械结构
一、光刻机工件台的母轨种类
二、光刻机工件台的传动机构与驱动电机
三、二轴粗动台与三轴微动台的结构及特点
四、扫描式硅片工件台和掩模工件台
五、气浮工件台的气足设计
第五节 双频激光干涉测量系统
一、双频激光干涉测量系统
二、测量系统布局和坐标计算方法
三、双频激光干涉测量系统的装配调整
四、双频激光干涉测量系统误差分析
第六节 工件台控制系统设计
一、三维精密工件台控制系统设计
二、三维气浮工件台控制系统设计
参考文献
第五章 分辨力增强技术
第一节 波前工程原理
第二节 离轴照明技术
一、OAI提高投影光刻成像系统分辨力和增大焦深的基本原理
二、四极照明
三、环形照明
四、二元光栅照明
第三节 相移掩模技术
一、PSM提高光刻分辨力的原理-
二、LevensonPSM
三、边缘PSM
四、辅助PSM
五、无铬PSM
六、衰减PSM
第四节 光学邻近效应校正技术
一、邻近效应现象与校正原理
二、线条偏置法
三、添加辅助线条法
四、灰阶掩模法
第五节 光瞳滤波技术
一、光瞳滤波(PF)提高光刻分辨力的原理
二、振幅光瞳滤波
三、相移光瞳滤波
第六节 偏振成像控制技术
一、偏振成像控制提高光刻分辨力的原理
二、偏振成像控制方法
参考文献
第六章 投影光刻整机集成
第一节 整机的主要性能
一、光刻动态分辨力与线条质量
二、套刻坐标系及套刻精度
三、投影光刻机的生产效率
四、整机的可靠性
第二节 投影光刻机整机电控系统
一、控制系统结构
二、电源系统
第三节 投影光刻机整机软件设计
一、投影光刻机的工作流程
二、整机测试软件
三、整机软件框架
第四节 环境控制系统
一、对投影光刻机内部环境控制系统的要求及其组成
二、投影光刻机内部环境控制系统的结构
三、投影光刻机对外部环境的要求
第五节 整机框架设计
一、投影光刻机的振动源
二、框架材料与线膨胀控制
三、整机框架结构实例
参考文献
第七章 投影光刻技术的发展趋势及纳米光刻新技术的前景展望
第一节 光学投影光刻技术的潜力
第二节 光学投影光刻技术的最新进展
第三节 纳米光刻新技术的前景展望
一、纳米压印技术
二、表面等离子体光学光刻
三、原子光刻
四、结语
参考文献
附录：国际主要投影光刻设备厂商机器型号
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