聚合物表面分析：X射线光电子谱和静态次级离子质谱（XPS SSIMS）

　　本书深入论述了X射线光电子谱（XPS）和静态次级离子质谱（SSIMS）及其在聚合物材料研究中的应用。在聚合物表面的结构分析与特性研究，特别是解决工业研究中有关问题时，XPS和SSIMS普遍被认为是强有力的技术。随着过去十年仪器分析能力和数据阐释方面的飞速发展，该领域已经发展到有可能将这两方面的信息合并起来的阶段。本书中，作者叙述了XPS和SSIMS技术，并就各自可获得的住处类型分别作了解释。本书也包含实际研究细节，强调了在聚合物表面结构研究中，XPS和SSIMS的信息互与联合作用，及其同材料性质的关联。对那些有志于聚合物表面和表面分析科学工作者、工业研究人员，本书是很有考参价值的。

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第一章 引言
1．1 聚合物表面的重要性
1．2 聚合物表面和体相的差异
1．3 添加剂和污染物的影响
1．4 聚合物表面预处理及改性
1．5 与表面特性有关的深度范围
1．6 聚合物表面分析技术的要求
1．7 XPS简要历史
1．8 SIMS简要历史
第二章 X射线光电子谱
2．1 仪器结构
2．2 物理基础
第三章 聚合物的XPS信息
3．1 样品荷电
3．2 结合能坐标基准
3．3 辐照损伤
3．4 内能级
3．5 震激伴峰
3．6 价带谱
3．7 Auger系列
3．8 官能团的标识
3．9 非破坏性深度剖析
第四章 静态次级离子质谱
4．1 仪器结构
4．2 物理基础
第五章 SSIMS信息
5．1 元素识别
5．2 聚合物谱
5．3 “小”分子谱
5．4 阳离子化
第六章 聚合物表面分析研究实例
6．1 引言
6．2 EMA共聚合物的表面表征
6．3 生物医用聚氨酯的表面表征
6．4 放电处理对聚烯烃表面的改性
6．5 PVC／PMMA共混物的表面结构
6．6 电活性聚合物