电子枪与离子束技术

　　内容简介电子枪与离子束技术近年来在科学研究和工业生产中得到了广泛的应用，尤其在冶金、宇航、电子工业中材料表面改性等领域的新工艺中更为多见。本书介绍了电子枪与离子束的理论基础，电子与等离子产生的机理，通过电场、磁场或复合场把产生的荷电粒子束进行聚焦、偏转、扫描等控制其运动规律的各种装置及其设计计算。内容分8章：电子束光学，电子束技术基础，离子束物理基础，强流轴向电子枪，偏转电子枪设计原理，空心阴极（HCD）电子枪，离子束应用技术，S枪离子溅射源的设计。作者基于多年的教学和科研实践，对内容进行了仔细的选取，力求理论与实际应用相结合，将与电子枪和离子束技术有关的基础理论与设计方法有机地结合在一起，较详细地论述了各种电子枪和离子枪的设计原理、设计计算方法及其应用；在内容上做到既具有一定的理论深度和系统性，又对相关设备的设计应用具有实践上的指导作用，为读者提供一个精练清晰、系统实用的内容体系。本书适合于真空技术、真空冶金、材料工程、热处理、焊接等部门从事设计、生产、研究和设备应用与维护的技术人员参考使用，也可供高等学校相关专业用做教材。

暂缺《电子枪与离子束技术》作者简介

1 电子光学
1.1 电子光学特征
1.2 轴对称电场中的电子运动
1.3 电透镜
1.4 磁透镜
1.5 实用磁透镜
1.6 静电透镜与磁透镜的比较
2 电子束技术基础
2.1 电子束的产生及性质
2.2 电子枪概述
2.3 强流电子枪设计基础
2.4 电子束蒸发沉积
3 离子束物理基础
3.1 等离子体基本性质
3.2 等离子体的分类
3.3 等离子体的获得
3.4 低温等离子体中粒子运动和效电基本过程
3.5 离子束与材料表面的相互作用
4 强流轴向电子枪
4.1 概述
4.2 轴向电子枪基本结构和工作原理
4.3 轴向电子束发生系统设计计算
4.4 电子光路系统设计计算
4.5 枪室真空系统设计
4.6 电子枪的调试
4.7 强流轴向枪电源设计
4.8 电子枪x射线的形成与屏蔽防护
5 偏转电子枪
5.1 电子束流磁偏转理论基础
5.2 偏转电子枪工作原理与结构
5.3 偏转枪（e型枪）参数设计
5.4 偏转电子枪束流设计计算
5.5 压差孔的设计
5.6 电子枪头的安装与调试
5.7 偏转电子枪电源
6 空心阴极放电（hcd）电子枪
6.1 空心阴极放电效应
6.2 空心阴极电子枪工作原理
6.3 空心阴极电子枪设计参数
6.4 hcd枪中等离子体的离化率与电流形成
6.5 偏转电磁场的设计计算
6.6 空心阴极与辅助阳极的设计
6.7 离子镀中等离子源的束流偏转
7 离子束技术
7.1 离子源
7.2 离子注入技术
7.3 离子束沉积技术
8 s枪离子溅射源的设计基础
8.1 s枪的基本原理与结构
8.2 s枪溅射源结构设计
8.3 s枪磁控溅射的工作特性
8.4 基本参数的设计计算
参考文献