金刚石薄膜沉积制备工艺与应用

　　这是一本较全面地叙述金刚石薄膜沉积制备工艺与应用的书。本书从金刚石薄膜的优异性能和应用前景出发，阐述了各种沉积薄膜的制备方法；论述了金刚石薄膜的非平衡热力学和金刚石膜声场的动力学因素；较详尽地探讨了能大面积沉积金刚石膜的热丝装置和当今沉积速率最高的等离子射流装置的一些关键技术和成膜关键技术和成膜工艺；同时介绍了性能接近金刚石膜、易实现产业化、应用前景看好的雷金刚石膜的制备工艺、性能和应用。最后展望了金刚石膜未来的发展前景，指出金刚石膜必将成为21世纪有影响的功能薄膜材料。

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第1章 概论
1 金刚石薄膜的优异性能及其应用前景
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第2章 金刚石薄膜沉积的非平衡势力学与形成机理
1 概述
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第3章 金刚石薄膜沉积生长的动力学因素与动力学方程
1 金刚石薄膜沉积生长的一些动力学因素
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第4章 高速大面积沉积金刚石薄膜的装置
1 大面积沉积金刚石薄膜的热丝CVD装置
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第5章 金刚石膜沉积工艺
1 金刚石膜的主要沉积方法和成膜生长概述
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第6章 类金刚石薄膜（DLC膜）
1 DLC膜的概述与表征
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第7章 结语与展望
1 金刚石膜进展概况
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