超大规模集成电路技术基础

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绪论
第一章 硅的晶体结构
第二章 光刻
第三章 掺杂
第四章 氧化及热处理
第五章 薄膜工艺基础与物理气相沉积
第六章 化学汽相沉积（VCD）
第七章 刻蚀
第八章 平坦化及多重内连线工艺
第九章 超大规模集成电路工艺汇总