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大规模集成电路的未来技术
作者:(日)西泽润一编;杨世良,林觶译
出版社:科学出版社
出版时间:1988-08-01
ISBN:9787030004147
定价:¥4.00
内容简介
本书介绍了多晶硅薄膜、半绝缘多晶硅薄膜及金属硅化物的生长技术和生成机理;利用光致发光法评价硅晶体性能的技术,以及大规模集成电路的微细加工技术等。
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