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正电子发射断层显像用放射性药物:制备、质量控制及代谢物分析

正电子发射断层显像用放射性药物:制备、质量控制及代谢物分析

作者:(德)G.斯托克林(G.Stocklin),(英)V.W.派克(V.W.Pike)主编;卢玉楷等译

出版社:原子能出版社

出版时间:1997-12-01

ISBN:9787502216757

定价:¥15.00

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