为超LSI技术研究所研制的步进机试行机1号于1978年7月完成。两个月以后，超LSI技术研究所对佳能研制的等倍型曝光设备、日本光学研制的缩小投影型曝光设备，也就是步进机，同时进行了发布。
超LSI技术研究所对我们的研发工作给予了很高的评价。在此之前，美国马萨诸塞州著名的精密仪器企业GCA公司已经将缩小投影型曝光设备进行了批量生产。此时，步进机作为新一代半导体制造设备的主角正式登上了世界的舞台。
对于刚刚涉足步进机领域的尼康来说，GCA公司可谓最大的竞争对手。前文提到的前辈胁本先生，他开发的超显微尼克尔镜头当时最大的客户之一就是GCA公司。
其实，我跟胁本先生两个人与GCA公司之间还有另外一层渊源。
那大概是1972年的事情。总部位于美国波士顿的半导体制造机械企业DBM公司的总经理来日本与我和胁本先生见了面。这家公司后来被GCA公司收购。虽然是步进机开发的核心内容，但当时我们还是对DBM公司总经理威尔先生透露了使用有尼康镜头的缩小投影型曝光设备（步进机）的研究理念。
步进机的构造，简单说来就是与显微镜正好相反。显微镜是将微小的事物通过镜头放大以至可以用肉眼观察、拍摄。而步进机则是将扩大画好的电路图通过镜头缩小，再刻入芯片。问题是，可以刻入的面积只有10毫米见方。因此需要一种技术能使芯片以步进状移动、停止、曝光，进行刻入。这种精密的技术被叫做“分步重复”，而应用这种技术的设备被称为“步进机”。
当时，威尔先生对这项技术没有表现出太大的兴趣，认为这种对位置和精度要求严格的机器不适于量产。但是在那次见面的四五年后，美国率先发布了步进机的研发成果。老实说，当听到这个消息时我非常懊恼，但是回头再想想，美国当时急速进步的工业控制技术也为步进机的问世提供了可能。
日本光学涉足步进机领域之后，GCA公司真的不再购买超显微尼克尔镜头了。但是在那以后很短的时间内，我们便赶超了抢先我们一步发布步进机研发成果的GCA公司，我们的产品席卷了整个世界。这都是因为高解像力投影镜头、超精密高速移动台、光电传感器三项核心技术得到了顾客的一致好评。使用高科技含量产品采取正面进攻，是取得胜利的根本原因。
后来，在20世纪80年代，GCA公司的经营恶化，于1989年被美国电机企业通用信号（General Signal）收归旗下，但依然未能摆脱业绩低迷的状态，到1993年实际上已经退出了步进机领域。
对“光与微米”孜孜以求的尼康技术阵营，以自己的实力，在与业界先锋军美国企业的较量中大获全胜。
