1976年3月，垂井先生担任所长的超LSI技术研究所，在通商产业省（现在的经济产业省）的主导下正式启动，开始着手超LSI制造设备的开发，此时半导体产业的发展被立为国策。除了曝光设备步进机，利用电子射线直接描画方式和X射线曝光设备的技术也发展起来。最早时，步进机被列为“第三研究重点”。
当时被称为“新时代芯片”的64千字节（KB）动态随机存储器（DRAM）的电路幅是1.5~2.0微米，超LSI技术研究所的目标则是研发出亚微米（1微米以下）的设备。
由于用于曝光的光线波长是0.4~0.5微米，所以光学步进机将电路幅控制在1.0微米还是有可能的，但即使日本光学仪器的技术再先进，研发出亚微米水平的镜头设备也任谁都没想过，这相当于在一根头发的断面上嵌入50条以上的线路。这种高精尖的加工技术，也许只能依靠电子射线或者X射线才能做得到。这是当时看起来最合理的分析。
就在垂井先生将步进机的开发重任点名交给日本光学的时候，我心里已经有了把握。我认为，要完成这项艰巨使命，核心技术在三个方面：第一，相当于步进机心脏的高解像力投影镜头；第二，装载了基板，并可以高速高精度移动的“超精密高速移动台”；第三，能够支持自动控制设备的光电传感器。这三项基本技术，当时的日本光学全部具备。
高解像力投影镜头方面，当时有最畅销产品超显微尼克尔镜头（Ultra-micro-nikkor）。这种镜头作为制造半导体主板的光掩膜板专用的镜头，在国内外都是数一数二的权威产品。
这种镜头的开发者就是高我８届的前辈胁本善司先生。他是一个执著的技术人员。尽管他有时会跟我抱怨 “你要搞步进机，那我的镜头就不好卖了啊”什么的，但一旦研究正式开始，他马上就亲自过来帮忙了。
移动台制作的研究课题是“要求能够笔直移动”。打个比方来说，我们要达到的精准程度就是，假如从东京向富士山射出一支箭，这支箭必须命中放置在山顶的一个网球。
将这种高精度技术的开发付诸实践的就是金子茂三郎先生。他是一个对技术孜孜以求的人，而且很有组织能力，总能把意见不一致的人聚拢在一起，将研究进行下去。
在当时的日本光学，像金子先生这样具有卓越技术能力的人才非常多。以前在公司内部，都有针对初高中毕业工作人员的技术培训所，也叫“专修科”。像我们这样理科大学毕业进入公司五六年的社员，往往作为老师对他们进行技术辅导和培训。他们非常认真刻苦，经常能提出十分深刻的问题。
我在专修科当老师的时候，给我印象最深的是一个叫大野康一的人。他初中毕业以后进入日本光学，靠自学开始研究光学，不知不觉间已经具备了大学毕业程度以上的专业知识。他被分配到质检部门，专门对新开发出的镜头进行检测，他还自己动手制作出了一套检测仪器。在步进机的开发过程中，我就把镜头的检测工作分配给了大野先生。
“二战”结束以后，很多学生虽然成绩优秀，但迫于家境无法继续上学。而恰恰是这样一群执著和勇于进取的青年，为日本光学在技术方面的发展提供了最有力的支持。
